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第330章 智慧城市计划[2/3页]

　　钟那都是一场灾难！

　　周正峰脸色凝重道：陈教授，依你看，汽车芯片要达到了多少nm工艺才行？

　　硅基芯片3nm和碳基芯片14nm勉强可以使用，但要对速度做限制。碳基7nm可确保无忧！

　　周正峰和余杰脸色一变，真是怕什么来什么。

　　国产芯片还卡在28nm，实验室倒是有14nm的，但没法量产，想要量产至少还得一两年的时间。

　　没有芯片，这个智慧城市就是空谈了。

　　周部长，你实话跟我说，若是有一种新的工艺打破CMOS、GaN、SOI三种工艺的封锁，以国内的光刻机技术，能不能达到7nm。

　　你前几天研究出了新的技术了？

　　周正峰脸色极其严肃，一瞬间他想到了前几天陈诺的研究。

　　你先别管我研究没演技出来，你先回答我的问题。

　　能，也不能！

　　周正峰沉思了一下。

　　中科院微电子研究院用聚电解质制成的聚合物电解质肥皂泡作为模板，用激光照射，也得到了13.5nm的极紫外光源，14nm的技术倒是很稳定了，但7nm的不稳定，成功率极差。

　　还有镜片，我们目前精度达不到，实验室倒是有几块前几年从汉斯国进口的，但只能在实验室用，所以即便我们光源达到了极紫外光源，芯片还是卡在28nm，无法量产14nm的芯片。

　　即便是有新的制程工艺，我们预计也会卡在7nm上，因为我们没有高精度的双工作台。

　　陈诺也是有些意外，没想到国内竟然在光刻机的光源上突破了，若不是他问，估计到官宣的那一天他才知道。

　　行吧，凑合用吧！

　　什么意思？

　　前几天我研究那台光刻机的时候，我发现平面结构MOS，可以改三维结构，我称之为FinFET，这种结构能有效控制泄漏

　　算了，一时半会说不清楚，你只需要知道，国产光刻机用这个技术能从28nm突破到14nm就行了。

　　唰！

　　碰！

　　周正峰和发改委主任

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